Valeo(VALEO S.A.)
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德国 MESA 测量技术、控制系统和过程技术领域开发创新的软件和硬件解决方案。MESA Electronic GmbH 开发和销售电子、测量和控制技术、气体分析、工艺工程和红外测量技术领域的产品。特别是在测量和控制技术领域,以及用于热处理的气体分析,特别是渗碳、氮化、露点和氧气控制。
MESA Electronic GmbH 开发和销售电子、测量和控制技术、气体分析、工艺工程和红外测量技术领域的产品。此外,它还执行客户特定的订单,特别是在测量和控制技术领域,以及用于热处理的气体分析,特别是渗碳、氮化、露点和氧气控制。
Mesa electronic 为您提供有效的解决方案来检查炉子的温度分布。MESA的系统随产品在熔炉中移动,无需使用牵引线即可吸收多达 20 个温度点。测量探头可以安装在批次的表面或核心中。在您的 PC 上对获得的数据的分析是实时评估的,或者在数据传输后进行评估。该系统适用于高达950°C的应用。
气体渗碳在热处理中仍然起着重要的作用。大气的温度和碳势(C-Potential)是过程控制的基本参数。直到今天,还没有可用于在线过程控制的C-Potential的直接测量方法。测量炉内气氛中的氧分压是控制C电位常用的间接方法。有不同类型的氧气探头。
MESA 主要产品
探头/传感器
电源单元
控制器
变送器/指示器
气体分析仪
铝箔测试仪
供气装置
燃烧器控制
MESA LV2 供气装置用于连续向所有常见的氧探头供应参考空气。一定体积的过滤外部空气被压入氧化锆管内部。低表压在很大程度上防止了炉内气氛渗入氧化锆管。选择的参考空气量不宜过大,否则会对内置热敏元件进行不必要的冷却。通常,带有氧化锆管道的氧气探头(MESA氧气探头)几乎不需要参考空气,因此这些探头的温度测量误差可以忽略不计。除了参考空气外,LV2 还提供用于探头冲洗的空气输出。这种外部可触发的空气输出用于冲洗保护管和氧化锆管之间的空间。此功能由进的 C 级控制器 (MCON Carbo) 在特定时间自动触发,持续一定时间。此功能的目的是通过燃烧和冲洗来去除烟尘颗粒和其他污染物。
配备 MK2.1 和 L 型探头的 GEA,探头测量测量气体接头末端的测量室中的残余氧含量。探头信号可以作为电压分接。探头以恒定电压加热。对于加热,只能使用MESA批准的电源。通过探头的气体量应在 20...50 升/小时。过多的气体体积会改变高度恒定的探头温度,从而导致测量值失真。每个探头都包括两个常数(K1 和 K2)。这些常数必须输入到测量仪器中(例如智能测量变送器 Carbo47、Carbomat-M、MCON Carbo)。如果没有,就会有一些测量错误。
Carbo-M是一种双通道测量和控制系统,用于热处理厂炉内C级计算和C级和温度控制。通过仪器后面板上的开关设置,MESA Carbo-M 可以很容易地适应现有设施。数据采集方案中的交替使用,例如,将气体分析仪更换为氧气探头,可以毫无困难地进行。MESA目前可用的用于确定炉内气氛中碳含量的分析方法是使用氧化锆探头间接测量炉内氧含量。Carbo-M为这些方法提供了特殊的支持。可根据要求提供探头和其他设备的数据表。
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