MueTec(MueTec EUROPE)

德国 Muetec 用于半导体制造光学计量和检测领域的产品，Muetec 的系统、服务和软件算法可帮助纳米电子制造商在整个制造过程中管理产量并大限度地减少浪费，从研发到最终批量生产。

MueTec为晶圆和光掩模行业的各种应用提供的自动光学检测（AOI）系统，包括CD（临界尺寸）和堆焊计量、缺陷检测、缺陷审查和薄膜厚度测量。这些缺陷检测和计量设备解决方案旨在支持晶圆厂加快其开发和生产爬坡周期，实现更高的半导体芯片良率并提高投资回报率。

MueTec的产品还用于相关行业，包括晶圆制造，光掩模制造，MEMS和LED制造以及通用材料研究。产品组合范围从独立显微镜和半自动系统一直到全自动产品和系统。支持从50.8毫米到300毫米的晶圆尺寸和高达750毫米的掩模尺寸。

作为一家以客户为导向的组织，MueTec致力于为我们的产品提供高水平的质量。MueTec的质量管理体系确保整个组织所有与质量相关的流程的持续改进。

MueTec 主要产品

DAVINCI 270UV计量系统

DAVINCI 200IR + 300IR

MT3000 – 晶圆计量

ARGOS – 高通量宏观检测

MueTec's拥有庞大的全球光学CD（临界尺寸）掩模计量系统安装基础。这些系统过去由徕卡和KLA以“LWM270UV”品牌。该产品系列的新成员是达 DAVINCI 270UV，这是一款全封闭的全自动掩模计量系统。MueTec的红外解决方案旨在提高MEMS制造的制造良率。为 100 mm、150 mm、200 mm 和 300 mm MEMS 晶圆提供全自动解决方案。

MueTec的高通量宏观缺陷检测产品专为具有许多不同晶圆类型的客户而设计，这些晶圆类型打算取代人工检测。该系统易于操作，不需要编写任何配方。它还能够在光刻过程中对所有晶圆进行的检测，其吞吐量等于或更快。因此，MueTec使客户能够从样品检测转向所有晶圆的检测，从操作员的手动检测转向统计上可靠的自动化检测过程。工具可以轻松设置，而无需占用太多的占地面积。低购置和运营成本保证了快速的投资回报。

Argos产品设计用于在较低分辨率下实现高通量，而伦勃朗产品则设计用于光学分辨率从1μm到4μm的高分辨率宏观缺陷检测。Spector系列提供带或不带遮盖的口罩缺陷检测。